自由時報 2023/09/02 荷蘭半導體出口新規一日生效，在尖端半導體製造設備的出口管制上，加入美國與日本的行列；荷蘭艾司摩爾（ASML）公司昨指出，已取得荷蘭政府許可，至今年底前可將部分深紫外光微影設備（DUV）出貨中國，不過預料明年一月一日起不太可能獲得相關許可。
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日本經濟新聞報導，荷蘭該規範涵蓋一小部分最先進的浸潤式DUV與原子層沉積系統（ALD）。ASML說，二○一九年起已禁止更先進的極紫外光微影設備出口中國，其最先進的DUV設備NXT:2000i系列適用新規，但其他DUV設備則不受限制；至於ALD，另一家荷商ASM國際則是全球龍頭。
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+ X6 A: i5 D! t+ C2 Q7 e5 N0 A荷蘭外貿與發展合作部長施萊納馬赫說，「我們依據國家安全採取此措施」；新規針對的是用於先進軍事目的的技術，若不控制出口，恐構成國安風險。主導全球半導體設備的美日荷一月間達成收緊管制共識，以阻止中國取得最先進晶片生產設備與材料；日本已於七月實施相關管制。
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ASML聲明，在九月一日前已獲得政府核准，可持續出貨中國NXT:2000i設備，直至今年結束，「明年一月一日起，我們不太可能獲得將這些系統出貨給中國客戶的出口許可」。
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中國海關數據顯示，今年前七月中國進口自荷蘭的半導體設備達二十六億美元，超過去年一整年總和，許多為成熟製程設備，顯示中國企業憂心荷蘭的進口限制恐進一步緊縮而事先搶購。
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